1.全光亮化學(xué)鍍鎳工藝特點(diǎn)：

循環(huán)壽命長(zhǎng)，可達(dá)8-10個(gè)循環(huán)（Metal Turn Over），[循環(huán)含義為每升鍍液將全部鎳鍍出再補(bǔ)加到開(kāi)缸時(shí)的鎳含量稱(chēng)為一個(gè)循環(huán)，一個(gè)循環(huán)最少可沉積鍍層900dm2·μm]；最高鍍速可達(dá)20-22μm/h；深鍍能力強(qiáng)、均鍍能力強(qiáng)，完全達(dá)到“仿型效果”；硬度高、耐腐蝕能力強(qiáng)；鍍層孔隙率低，10μm無(wú)孔隙；耐磨性好，優(yōu)于電鍍鉻；可焊性好，能夠被焊料所潤(rùn)濕 電磁屏蔽性能好，可用于電子元件及計(jì)算機(jī)硬盤(pán)；鍍層為非晶態(tài)，非磁性Ni-P合金

2.  全光亮化學(xué)鍍鎳鍍層特點(diǎn)：

磷含量：6-9%(wt)；                                              電阻率：60-75μΩ·cm；